A: 跟着半导体显示器工业的纯熟与拓新，国内的蚀刻/刻蚀（etching）工程也在扩展。

  蚀刻工程中，与等离子触摸的铝合金、石英、陶瓷等零部件会因为被炮击冲蚀而发生颗粒污染。这些颗粒污染会对要害零部件的质量以及产值形成严重影响。因为从设备外表开释的颗粒会在晶片上发生缺点，这种缺点会导致晶片作废。

  为了确保刻蚀的强度，往往会挑选如CF4、SF6、O2、Cl2、HBr 等腐蚀气体及等离子体。这些气体会对零件外表发生强腐蚀效果。高密度等离子体冲蚀条件下，进步作业仓内要害零部件的耐腐的才能是一个要害点。

  在芯片刻蚀机腔体内壁外表喷涂一层0.15mm厚的氧化钇涂层，可有很大成效防止腔体基材对硅片刻蚀的污染，一起刻蚀机的大修寿数可由15天延长到6个月。一起因为氧化钇具有十分杰出的高温安稳功能以及恶劣环境下的耐热功能等，可用作高温隔热涂层资料，如用于硬质合金工业中石墨层的维护等。

  氧化钇喷涂粉末资料在国际上已有大范围的使用，lumi-m公司也是于2009年开端粉末资料的研讨开发作业，目前为止设立了半导体与显示器热喷涂的7条喷涂生产线。建立了专门的热喷涂研讨所。为了习惯集成电路芯片刻蚀机与韩国各大LCD, 显示器工业的需求，开发了合适等离子喷涂用的大颗粒氧化钇喷涂粉末。

  钇作为稀土中的其间一种，用处极为广泛。可供制造荧光资料、铁氧体、单晶资料、光学玻璃、人工宝石、陶瓷和制备金属钇等。但氧化钇粉末是不能直接用作热喷涂粉末的。

  为了确保涂层的抗冲蚀功能，则需要对氧化钇来加工，也便是咱们常说的造粒。

  经过一系列工艺（喷雾烧结法），混组成浆、加热塑性、定型挑选的工艺让本来的氧化钇小颗粒（多为1um）聚合在一起，形成大的球形颗粒。

  许多厂家会标榜自己粉末纯度高，到达5N，可是选取粉末时不行只看纯度就断定粉末的质量。